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近紅外波段版本

  • 簡單描述
  • 近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm(NIR)近紅外波段版本, 設計上采用了更優(yōu)化的像差修正設計,成像質(zhì)量更好, 幾無失真。
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  • 更新時間:  2024-11-22
  • 訪問次數(shù):  1328
  • 廠商性質(zhì):  生產(chǎn)廠家
詳細介紹
品牌雙利合譜產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域綜合

近紅外波段版本介紹:

近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm(NIR)波段, 設計上采用了更優(yōu)化的像差修正設計,成像質(zhì)量更好, 幾無失真。

近紅外波段版本規(guī)格:

增強版

N17E

光譜范圍

900-1700nm

倒線色散

110nm/mm

光譜分辨率

5nm

像面尺寸(空間×光譜)

7.6×14.2mm

空間分辨率

<15μm, rms

像差

無像散

枕形畸變:<5μm

梯形畸變:<5μm

相對孔徑

F/2.0

狹縫寬度

30μm(50,80,150可選)

狹縫長度

14.2 mm

通光效率

>50%

雜散光

<0.5%

鏡頭接口

C型

相機接口

C型

主體材料

外形尺寸

60×60×220mm

重量

1500g


雙利合譜科技是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業(yè),由北京卓立漢光儀器有限公司和合利科技發(fā)展有限公司共同合資成立。

結合雙方近10年在推掃式高光譜系統(tǒng)以及LCTF(可調(diào)液晶濾光片)高光譜系統(tǒng)的技術實力,為廣大客戶提供全面的高光譜系統(tǒng)解決方案。目前國內(nèi)已經(jīng)成功在農(nóng)業(yè)遙感、工業(yè)分選、刑偵物證鑒定、機載、考古、食品檢測等領域處于高光譜應用的優(yōu)勢地位。

始終以滿足用戶需求為宗旨,分別于北京、上海、 深圳、成都、西安設立辦事處,為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。 公司長期重視優(yōu)質(zhì)高效、盡可能短時間為客戶開發(fā)產(chǎn)品及提供技術支持。雙利合譜真誠的希望與國內(nèi)外客戶攜手合作,為推動我國科研及工業(yè)生產(chǎn)迅猛發(fā)展做出貢獻。

 

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