近紅外波段版本
品牌 | 雙利合譜 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應用領域 | 綜合 |
近紅外波段版本介紹:
近紅外成像光譜儀可提供 900-1700nm(NIR)波段, 設計上采用了更優(yōu)化的像差修正設計,成像質(zhì)量更好, 幾無失真。
近紅外波段版本規(guī)格:
增強版 | N17E |
光譜范圍 | 900-1700nm |
倒線色散 | 110nm/mm |
光譜分辨率 | 5nm |
像面尺寸(空間×光譜) | 7.6×14.2mm |
空間分辨率 | <15μm, rms |
像差 | 無像散 枕形畸變:<5μm 梯形畸變:<5μm |
相對孔徑 | F/2.0 |
狹縫寬度 | 30μm(50,80,150可選) |
狹縫長度 | 14.2 mm |
通光效率 | >50% |
雜散光 | <0.5% |
鏡頭接口 | C型 |
相機接口 | C型 |
主體材料 | 鋁 |
外形尺寸 | 60×60×220mm |
重量 | 1500g |
雙利合譜科技是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業(yè),由北京卓立漢光儀器有限公司和合利科技發(fā)展有限公司共同合資成立。
結合雙方近10年在推掃式高光譜系統(tǒng)以及LCTF(可調(diào)液晶濾光片)高光譜系統(tǒng)的技術實力,為廣大客戶提供全面的高光譜系統(tǒng)解決方案。目前國內(nèi)已經(jīng)成功在農(nóng)業(yè)遙感、工業(yè)分選、刑偵物證鑒定、機載、考古、食品檢測等領域處于高光譜應用的優(yōu)勢地位。
始終以滿足用戶需求為宗旨,分別于北京、上海、 深圳、成都、西安設立辦事處,為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。 公司長期重視優(yōu)質(zhì)高效、盡可能短時間為客戶開發(fā)產(chǎn)品及提供技術支持。雙利合譜真誠的希望與國內(nèi)外客戶攜手合作,為推動我國科研及工業(yè)生產(chǎn)迅猛發(fā)展做出貢獻。